新毒＆ポイズンスモーク(PS)取扱説明書

・珍で新毒が乗るのは「通常攻撃」「ベナムプレッシャー(VP)」「ポイズンスモーク(PS)」の3種だけ。
・「ベナムプレッシャー」は新毒が相手に効かない限り新毒付与の効果が切れない。
　(ハズだけどアサwikiに書いてないな…)。
・「アンチドーテ」の触媒「解毒剤」は「重量0」。
・既に新毒にかかっている相手へ別の新毒をかけることは出来ない。
対応策1⇒アンチドートをかける。
対応策2⇒影葱のDIを利用して上書きする。
・影葱はソロで忘却DIを連発する事は出来ない(服毒後の忘却を解除するため珍が必要)。
・影葱の「DIクラウドキル」は不死鎧か毒鎧で無効化可能(クラウドキルが毒属性)。

【よくわからん事】
・(1)：VPのディレイ＆CT、CI以下なら連打時のダメージがEDPCIを上回るかも。
　　　(EDPペナが無いから)…と思ったけど、相手に新毒が効かない事を
　　　祈りながら連打するという本末転倒な事態になる。
・(2)：影葱の「DIフェイントボム」対策、移動先先読みの呪縛だけ？

■ポイズンスモーク(PS)のFEGv撒き方講座
・新毒付与状態のみ使用可能、消費SP40、射程5(6？)範囲5*5、最大設置数1、
　直接ダメージは無し、2秒毎に判定、新毒化確率50%。
・崖撃ち可能。
・使用目的1：アンチドートを併用した忘却付与で敵のスキル封印。
・使用目的2：アンチドート＆忘却で敵に｢踏み込みたくねー｣と思わせ散布セルを面制圧。

・敵の陣地に直接散布する(主に攻撃)
一番狙いたいけど、一番狙いにくい。
理由は「PSの射程が5しかない」ため近づく必要がある＝必然的に敵の攻撃射程内になる。
敵の陣地に近づいているため当然火力密度は高いため危険。
またこの火力の中で敵にアンチドートをかけ続けるのは難しい。
よって基本的に撒いたら逃げろ。
小規模戦だと未対策のGも多いので陣地を崩す足がかりになる事もあるが、
中規模以上だと対策されている事が殆ど。

・敵とこちらの間に散布する(主に面制圧)
平地戦だと起こりえる状況。敵の踏み込みを防止する(躊躇わせる)ために撒く。
こちらから近づかないので危険度は低く、アンチドーテもかけやすい。
機動戦(混戦)中なので事前の服毒が確実に出来ていない可能性もある。
敵とこちらの間で足止めをできる状況でないと容易に通過されてしまう。
相手の前衛がこちらへ接近した時に足を止めるであろう場所がベスト。
ただし範囲が5*5と狭く1枚しか置けないため、
通路や自軍手前など設置場所を選ばないと有効に働かない。

・自陣に散布する(主に防御)
自陣に忘却を撒いて残影修羅やDI珍が自陣に突撃＆範囲攻撃を仕掛けてくるのを防止。
敵は突撃前に服毒してる可能性が高いので突撃前後に対象へのアンチドーテ必須。
ただしPSの成功判定が2秒毎に50%なので即効性に欠ける。確実ではない。

また自陣で敵に呪縛された時はPSMMRを散布⇒アンチドーテで修羅にMMRをかけ
修羅がMMRでスキル暴発すれば呪縛が解除される。
ただこれも即効性に欠ける。可能なら修羅を即排除するほうが速い。
確実にタゲれるならアンチドーテ⇒MMRベナムプレッシャーでいいかもしれない？